13.5 nm 의 단파장 광원을 이용하는 극자외선 리소그래피 (EUVL)는 화학증폭형 포토레지스트 (CAR)와 함께 서서히 고성능 IC 칩의 상업 생산에 투입되기 시작하고 있다. 하지만 EUVL이 보다 큰 규모의 상용화로 성공적으로 진행하기 위해서는 포토레지스트와 관련된 기술적 장애물을 넘어야 한다고 얘기된다. 발표자를 포함한 인하대-포항공대 공동연구진은 EUVL의 효용성을 높이기 위한 레지스트 연구를 진행해 오고 있다. 특히 전자의 존재 하에서 진행 가능한 과불소 화합물의 분해 및 자유 라디칼 생성, 라디칼 간 결합 현상을 이용한 네거티브형 EUV 레지스트 개발연구를 깊은 관심을 가지고 수행해 왔다. 본 발표에서는 촉매량의 첨가제가 필요 없는, 과불소화 단위를 포함하는 불소화 고분자 기반 EUV 레지스트 개발 연구에 대한 소개 및 현재의 진행 결과를 말씀드리고자 한다.