김세영 고분자 과학과 기술 제 35 권 5 호 2024년 10월 373 이상의 논의를 종합하면, 계면구조는 용액의 농도 및 그에 따른 흡착량에 의해 결정되는 동시에 계면의 물성을 좌우하는 주요인이다. 그러므로 계면구조를 정확히 측정하는 분석법은 용액의 조성과 계면물성 사이의 연관성을 밝히는 데 필수적이다. 또한, 계면적을 조절할 수 있는 동적계면 dynamic interface 에서 계면의 확장 및 수축에 따른 계면구조를 분석하는 것 역시 중요한 문제이다. 따라서, 본고에서는 고체-액체 계면을 제외한 액체-액체 및 기체-액체 동적계면의 구조 분석법으로서 반사율 기법에 대해 소개하고자 한다. 2. 본론 2.1 반사율 기법의 개괄 반사율 기법 reflectometry 은 전자기파 및 입자파를 시료 계면에 조사한 후 반사된 파동의 세기를 측정하는 것으로, 계면을 비파괴적으로 분석할 ...

김세영 고분자 과학과 기술 제 35 권 5 호 2024년 10월 375 브러쉬 나노입자 등 다성분 계면활성제의 흡착을 관찰할 경우 특정 성분만 중수소 치환함으로써 다양한 계면구조 정보를 얻을 수 있다. NR을 이용한 사례로 그림 3과 같은 고분자 브러쉬 나노 입자의 기체-물 계면 흡착을 살펴보면, 나노입자가 이루는 계면 단층막의 profile이 NR 결과와 부합함을 알 수 있다. 이렇듯 NR은 고분자 등 유기물질의 계면구조를 측정하는 데 유리하며 중수소 치환을 이용해 다양한 실험을 구사할 수 있다는 장점이 있다. 그러나 NR은 원자로나 파쇄 spallation 중성자원이 필요하기에 세계적으로 희소하며, 특히 액체 동적계면을 분석할 수 있는 수평 horizontal 반사율 장치는 미국 Oak Ridge , 일본 J-PARC , 호주 ANSTO 등 주요 국가별로 한 곳 정도만을 보유하고 있다. 이렇듯 낮은 접근성�...

고분자 과학과 기술 제 35 권 5 호 2024년 10월 377 조한희 울산과학기술원 신소재공학과 E-mailhhcho@unist.ac.kr 전도성 고분자는 광전기적 특성 조절이 용이하고 용액 공정이 가능하기 때문에 다양한 유기 소자에서 활용 가능 하지만, 기존 합성법으로는 균일한 분자량의 고분자를 대량 생산하는 것이 제한적이어서 상용화에 어려움이 많았다. 최근 중국의 Hui Huang 연구팀은 Buchwald 타입의 촉매를 Suzuki-Miyaura 중합반응에 활용하여 균일한 분자량의 전도성 고분자를 상온에서 대량 생산하는 방법을 개발하였다. 특히, 20종 이상의 고분자 중합에 활용하여 새로운 합성법의 범용성을 입증하였기 때문에 차후 전도성 고분자 상용화에 큰 기여를 할 것으로 기대한다. 액 conjugation 구조를 가지는 전도성 고분자는 우수한 광전기적 특성과 저온 용액 공정을 강점으로 하여 �...

고분자 과학과 기술 제 35 권 5 호 2024년 10월 379 본 연구결과는 “Vertical organic electrochemical transistors for complementary circuits”의 제목으로 2023년 Nature에 게재되었다. W. Huang et al., Nature, 613, 496 2023 , DOI10.1038/s41586-022-05592-2 고분자 반도체에서 hole 전하 캐리어에 의해 결정되는 전기화학적 이온 도핑 현상 규명 이온-전자 혼합전도체는 이온과 전자 전하의 커플링 ionic-electronic coupling 원리에 의해 전기화학적 도핑 정도가 결정된다. 특히, 혼합전도체 내에서의 이온과 전자의 동역학적인 수송 특성과 두 전하사이의 상호작용은 아직까지 메커니즘적으로 알려진 것이 부족한 상황이다. 일반적으로 이온전하의 낮은 이동도로 인해, 이온전하가 채널로 주입되는 과정의 속도에 의해 전기화학적 도핑 속도가 결정되는 것으로 알려져 있지만, 본 연구에서는 유기혼합전도...

고분자 과학과 기술 제 35 권 5 호 2024년 10월 381 이흥재 | 특허청 반도체소재심사과 본 특허동향 요약서는 디스플레이용 저온 고속 열처리 장비 및 공정기술의 특허 동향을 분석함으로써 우리나라의 기술 수준, 선진기업의 연구개발 동향 및 핵심 특허 현황 등을 파악하여, 전략적인 연구개발 계획 수립에 활용할 수 있도록 객관적이고 체계적인 특허 정보를 제공하고자, 특허청이 발주하고 한국 지식재산전략원이 주관한 특허 동향 조사 보고서의 내용 중 출원 동향에 대한 부분을 발췌한 것으로 전문은 e-특허나라 홈페이지 https//biz.kista.re.kr/patentmap/ 에서 보실 수 있음. 1. 분석 배경 본 『디스플레이용 저온 고속 열처리 장비 및 공정 기술 개발』은 국내외 특허분석을 통하여 현재의 기술수준, 기술개발동향, 시장 및 산업의 동향 등을 검토함으로써 R&D 사�...