박상희ㆍ최완석ㆍ이정현 고분자 과학과 기술 제 28 권 5 호 2017년 10월 391 그림 3. AgNP@SiO2 나노 입자가 고정화 된 분리막.10 a AgNP@SiO2 나노 입자의 고정화 전략. b AgNP@SiO2 나노 입자의 TEM 이미지. c AgNP@SiO2 나노 입자가 고정화된 분리막의 단면SEM 이미지. d Sonication 처리 후 AgNP@SiO2 나노 입자가 고정화된 분리막의 표면 SEM 이미지. e AgNP@SiO2 나노 입자 고정화 단계별 분리막의 미생물에 대한 항균 특성. 소재를 적용하여 미생물의 부착 및 증식을 동시에 제어할 수 있는 연구가 많이 보고되어 왔다. VTT 핀란드 국가기술연구 센터의 Nikkola 연구팀은 해수담수화 분리막 표면의 항균성 을 향상시키기 위해서 cationic polyhexamethylene guanidine hydrochloride PHMG 로 개질된 PVA PVA-PHMG 를 사 용하여 코팅을 수행하였다.9 PVA-PHMG로 코팅된 분리막 의 표면에서 미생물의 부착이 확연하게 ...

박상희ㆍ최완석ㆍ이정현 고분자 과학과 기술 제 28 권 5 호 2017년 10월 393 그림 5. 나노패턴을 이용한 분리막 내오염성 향상.17 a TiO2 패턴 분리막 제조 방법 개략도. b mLbL 분리막 표면 AFM 이미지. c, d mLbL 분리막 표면 및 단면 SEM 이미지. e TiO2 패턴 분리막 표면 AFM 이미지 f, g TiO2 패턴 분리막 표면 및 단면 SEM 이미지. 이상 모든 그림에서 스케일 바=500 nm. h mLbL, TiO2-flat, TiO2-patterned 분리막의 박테리아 오염수 여과 유량 정규화 그래프. 우측 SEM 이미지는 측정 후 각 분리막의 단면을 나타낸다. 고밀도 화학구조는 그대로 유지되기 때문인 것으로 설명하 고 있다. 이와 같은 결과는 우수한 항균 특성과 함께 본 연구 에서 제시한 APD 기술을 이용한 AgNP 나노 입자 고정화 전략의 장점을 더욱 부각시켜 준다. 은 나노 입자의 표면 고정화와 장기적인 항균 지속성에 초 점...

일반총설 고분자 과학과 기술 제 28 권 5 호 2017년 10월 395 정수현 2009 성균관대학교 화학공학과 학사 2017 GIST 신소재공학부 박사 2017-현재 GIST 히거신소재 연구센터 선임연구원 홍순일 2010 한양대학교 신소재공학부 학사 2012 GIST 신소재공학부 석사 2012-현재 GIST 신소재공학부 박사과정 이진호 2010 광운대학교 전자재료공학과 학사 2017 GIST 나노바이오 재료전자공학과 박사 2017-현재 GIST 히거신소재 연구센터 선임연구원 백형철 2008 충북대학교 공업화학과 학사 2010 GIST 신소재공학부 석사 2016 GIST 신소재공학부 박사 2016-현재 GIST 히거신소재 연구센터 선임연구원 장수영 2008 부산대학교 고분자공학과 학사 2010 GIST 신소재공학부 석사 2015 GIST 신소재공학부 박사 2015-2016 GIST 차세대에너지 연구소 선임연구원 2016-2017 Imperial College London 방문연구원 2016-현재 GIST 신소�...

정수현ㆍ홍순일ㆍ이진호ㆍ백형철ㆍ장수영ㆍ김근진ㆍ강홍규ㆍ이광희 고분자 과학과 기술 제 28 권 5 호 2017년 10월 397 그림 2. a 광활성층을 패턴 하지 않는 유기태양전지 모듈 구조 개념도.10 b 광활성층 만을 패턴 하는 유기태양전지 모듈 구조 개념도.3 c 은 나노 입자를 함유한 광활성층과 새로운 후처리 공정을 통해 제작한 유기태양전지 모듈의 개념도.11 박막을 패턴 없이 형성한 후에 레이저 스크라이빙과 같은 후 처리 패턴 공정을 이용하여 여러 개의 단위소자를 형성하는 데, 미국 Plextronics의 Ritesh Tipnis 그룹은 스핀 코팅과 레 이저 스크라이빙 방식을 이용하여 효율 1.1% 면적 233 cm2 의 유기태양전지 모듈을 제작하였다. 후처리 패턴 공정을 통 해 유기태양전지 모듈을 제작하는 경우에는 후처리 공정 기 술의 패턴 해상도가 모듈의 성능을 결정하는데,...

정수현ㆍ홍순일ㆍ이진호ㆍ백형철ㆍ장수영ㆍ김근진ㆍ강홍규ㆍ이광희 고분자 과학과 기술 제 28 권 5 호 2017년 10월 399 그림 7. a 그라비어 프린팅, b 플랙소그래픽 프린팅, c 스크린 프린팅, d 오프셋 프린팅 기법의 모식도.15,19 그림 8. a 브러쉬 코팅의 모식도, b 3-D 프린터를 이용한 코팅 모습.20,21 그림 5. 나이프오버에지 코팅장비의 모식도 왼쪽 와 실제 모습 오른쪽 .15 그림 6. a 스프레이 코팅 기법, b 잉크젯 프린팅 기법의 모식도.16 양각 패턴으로 기판에 인쇄된다는 차이점이 있다. 따라서 플 랙소그라픽 방식이 그라비어 프린팅보다 좀 더 균일한 박막 형성이 가능하다고 알려져 있다. 스크린 프린팅은 20세기 초 부터 사용된 오래된 인쇄 기술로 연구실 단위에서도 많이 사 용하고 있다. 메쉬 형태로 패턴된 마스크 위에 용액을 스퀴즈 로 문질러 마스크 밑...