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고분자 과학과 기술 제 32 권 1 호 2021년 2월 43 개 요 특허 동향분석 표 1. 분석대상 기술분류 대분류 핵심요소기술 노이즈제거 및 유효특허추출기준 450 nm-470 nm 파장 영역을 이용한 친환경 색변환 양자점 대량 합성 기술 친환경 양자점 균일 양산 AA IPC 기반한 비관련분야 특허 제거 특허청구범위요약서 상의 기재를 기초로 친환경 양자점 균일 양산을 키워드로 하여 유효특허로 추출하고, 하나의 특허를 물질, 응용, 합성 방법 관점에서 종합적으로 살펴볼 필요가 있음. 양자점 기술의 경우 양자점 물질, 양자점을 이용한 광학 부재, 양자점 합성 방법이 하나의 특허 내에 복합적으로 어우러져 있는 경향이 큼. 따라서, 양자점 특허를 기계 적으로 서로 다른 분류로 나누는 것은 데이터의 부정확성을 높일 수 있음 이흥재 | 특허청 기초재료 심사과 본 특허동향 ...
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