이수언ㆍ김시몬ㆍ김봉훈 고분자 과학과 기술 제 33 권 1 호 2022년 2월 21 하여야 하며, 반도체/금속 나노와이어 nanowires 를 성장 시키는 상향식 bottom-up 제조공정의 경우는 3차원 형태로 제조 가능한 재료 종류가 한정되어 있다.4 위와 같은 3차원 고분자 소자 제작을 위한 기존 공정의 한계점을 극복하기 위해서 최근 “늘어나는 기판”과 “기계적 박리공정 mechanical buckling process ”을 이용하여 3차원 형태의 고분자 소자를 만드는 접근 방식이 제안되고 있으며, 이는 다음과 같은 장점을 특징으로 한다. 첫째, 늘어나는 기판 위에 제조가 되기 때문에 유연성 또는 신축성이 필요한 웨어러블 전자소자 wearable electronic devices 응용에 매우 유리하다. 둘째, 박막 형태로 구현이 가능한 고분자 소자라면 재료 종류에 상관없이 모두 3차원 형태로 제조할 수 있다. 셋째, �...

양현승ㆍ이우성 고분자 과학과 기술 제 33 권 1 호 2022년 2월 19 제작된 antenna array 구조체는 aluminum을 기반으로 제작된 기존 metal antenna array에 비해서 원가 절감과 더불어 경량화가 가능하다는 것을 확인하였다.18 A. M. Cook 연구진 에서는 DLP 방식의 3D 프린팅 기술로 제작된 serpentine waveguide circuit 구조체에 Au sputtering을 함으로써 표면에 전도성을 부여하고, 이후 전해 도금 공정을 통해서 Cu 전도층이 결합된 serpentine waveguide circuit 를 구현하였다.19 또한 전해 도금 공정을 이용해서 3D 구조체의 선택적 영역에만 전도층을 형성하는 기술도 보고되었다.20­22 N. Lazarus 연구진에서는 전도성을 갖고 있는 고분자 필라멘트와 비전도성 고분자 필라멘트를 동시에 FDM 방식의 3D 프린팅 기술에 적용하여 3D 구조체를 제작하였고, 3D 구조체 중 전도성 필라멘트로 제작된 영역�...

양현승ㆍ이우성 고분자 과학과 기술 제 33 권 1 호 2022년 2월 17 형성하는 방법으로써, 화학반응을 위해서 도금하고자 하는 형상의 표면에 전처리 공정이 요구된다. 고분자 구조체 표면에 무전해 도금을 효과적으로 진행하기 위해서는 catalytic seed ex Pd, Ag, polydopamine 를 이용한 고분자 표면의 활성화 과정이 필요하다. 무전해 도금 공정에서는 고분자 3D 프린팅 구조체 표면을 에칭 etching 공정을 통해서 catalytic seed 들이 잘 결합할 수 있도록 rough 하거나 친수성 성질을 갖는 표면으로 유도하고, catalytic seed를 구조체 표면에 결합시킴 으로써 무전해 도금 공정을 진행할 수 있다 그림 1 .5,6 Pd와 같은 catalytic seed들의 고정화에 polyelectrolyte를 활용할 수 있다. J. Yang 연구진에서는 상용 3D 프린팅 레진으로 제작된 3D 구조체 표면에서 atomic transfer radical polymerization 방식으...

안창의ㆍ배광민ㆍ전석우 고분자 과학과 기술 제 33 권 1 호 2022년 2월 15 7f 3차원 ZnO/Epoxy 복합소재는 기존 자외선 차폐 필름 재료를 대체할 수 있는 좋은 옵션이 될 수 있을 뿐만 아니라, 자외선에 피부가 그대로 노출되기 쉬운 우주 공간 및 우주선 에서의 자외선 차폐 필름 등으로의 응용 가능성을 모색할 수 있을 것으로 기대한다. 3. 결론 본 특집에서는 차세대 디스플레이용 3차원 나노 구조 기반 고분자 복합소재에 대해 정리하여 소개하였다. 구체적으로 고전력을 필요로 하는 디스플레이용 고강도, 고방열 필름, 접을 수 있는 디스플레이용 고경도 유연 필름, 안구 보호용 자외선 차폐 필름 관련하여 3차원 나노 구조를 이용한 고성능 고분자 복합소재에 대해 살펴보았다. 3가지 고분자 복합 소재는 공통적으로 가시광선에 대한 높은 투과도를 보이면서 �...

안창의ㆍ배광민ㆍ전석우 고분자 과학과 기술 제 33 권 1 호 2022년 2월 13 위 3가지 전략 중 2가지 i, ii 를 고온에서 한번의 열처리로 간단히 해결할 수 있다. 제작된 3차원 나노쉘 nanoshell 구조의 Al2O3를 700도 이상의 온도에서 열처리를 하면 X, Y 방향으로는 기판에 접착되어 있어 수축이 일어나지 않지만 Z방향으로는 수축이 발생한다. 최초에 제작되는 3차원 나노 구조는 Z방향으로 이방성을 가지는 BCT Body Centered Tetragonal 격자와 유사한 형태이지만 고온에서 열처리에 의한 Z방향으로 선택적 수축을 통해 종횡비를 10%이상 줄 일 수 있다. 또한 열처리 후 Al2O3 필러의 치밀화 및 결정화가 함께 진행됨으로 필러 소재의 기계적 물성을 크게 증가 시킬 수 있다 그림 5b,c 강화되고 구조적 이방성을 줄인 3차원 원 Al2O3 나노 구조체 제작 후 Si, C, O이 분자 수준에서 혼합되...