고분자 과학과 기술 제 35 권 1 호 2024년 2월 35 고분자 바인더를 이용한 국부 반응 환경 제어를 통한 다중탄소 화합물로의 전기화학적 이산화탄소 환원 반응 개선 전기화학적 이산화탄소 환원 반응 electrochemical CO2 reduction reaction, CO2RR 은 친환경 에너지를 활용하여 대기 중 이산화탄소를 포집, 고부가가치의 화합물로 전환할 수 있는 탄소 중립과 장기 에너지 저장을 실현할 수 있는 유망한 기술이다. 수계 전해질을 이용하는 전기화학적 이산화탄소 환원 반응의 특성 상 경쟁반응인 수소 발생 반응을 동반하는데 이는 이산화탄소 환원 반응의 선택성을 떨어뜨리는 원인이 된다. 이와 같은 한계점은 금속 촉매에 고분자 바인더를 첨가하여 국부 미세환경 조절을 통해 이산화탄소 환원반응의 효율을 향상시킬 수 있다. 서로 다른 소수성 정도를 가지는 고분자�...

고분자 과학과 기술 제 35 권 1 호 2024년 2월 37 촉매 미세환경 제어를 통한 강산성 전해질 내 이산화탄소의 다중탄소 화합물 전환 강산성 전해질을 사용한 전기화학적 이산화탄소 변환 시스템은 중 탄산염 생성으로 인한 이산화탄소 손실을 방지하여 반응 효율을 크게 올릴 수 있다. 그러나 양성자가 풍부한 환경으로 인해 경쟁반응인 수소 발생 반응이 활발히 일어난다는 단점을 가진다. 본 연구에서는 절연성 고분자 나노 입자와 과불화 술폰산 이오노머를 사용해 양성자의 확산을 방해하는 고분자층을 형성하여 강산성 전해질에서 수소 발생 반응을 억제하고자 하였다. 본 연구는 다공성 폴리테트라플루오로에틸렌 poly tetra- fluoroethylene , PTFE 기판 위에 200 nm 두께의 구리 박막을 덮어 전극을 제작하고, 그 위에 상업용 폴리스티렌 나노구체와 이오노머를 �...

디스플레이 핵심 소재 및 소자 기술 개발 고분자 과학과 기술 제 35 권 1 호 2024년 2월 39 3. 국가별 Landscape 3.1 주요시장국 연도별 특허동향 디스플레이 핵심 소재 및 소자 기술 개발 분야의 연도별 전체 특허동향을 살펴보면, 2000년대 후반 이후 출원 건수가 증가하고는 있으나, 연도별로 출원 건수의 많고 적음이 존재하여 전반적으로 출원 추이가 뚜렷하게 나타나지는 않음. 한국 특허와 미국 특허는 2000년대 초반에 출원 건수의 증가율이 높게 나타났고, 이후에는 마이너스와 플러스 증가율을 반복하는 양상을 보임. 한국 특허의 연도별 특허 출원 동향을 살펴보면, 2006년 이후부터 매년 15건 이상의 관련 특허를 출원한 것으로 보아, 2000년대 후반부터 양적인 성장이 이루어진 것으로 판단되지만, 연도별로 마이너스 성장률과 플러스 성장률이 반복되는 것을...

디스플레이 핵심 소재 및 소자 기술 개발 고분자 과학과 기술 제 35 권 1 호 2024년 2월 41 많이 출원한 국가는 미국으로 전체 출원건수의 약 36%를 차지하고 있으며, 그 다음으로는 일본, 한국의 순으로 나타났고, 유럽을 제외한 주요 시장국에서의 출원율이 큰 차이를 보이지 않고 있음. 미국 특허는 총 191건으로 전체 관련특허의 36%를 차지하고 있으며, 내국인보다는 외국인의 비율이 82%로 매우 높게 나타남에 따라, 기술을 주도하는 기업이 존재하기보다는 디스플레이 관련 시장이 크게 형성되었다는 것을 알 수 있음. 외국인 중에서는 일본 국적 출원인의 비율이 25%로 가장 높았고, 기타 국적 출원인에 포함된 대만 국적 출원인이 약 20%의 점유율을 보임. 일본 특허는 총 158건으로 전체 관련 특허의 30%를 차지하고 있으며, Mitsubishi Polyester Film과 Seiko Epson 등 주...

디스플레이 핵심 소재 및 소자 기술 개발 고분자 과학과 기술 제 35 권 1 호 2024년 2월 43 한국 국적 출원인이 4명으로 미래 디스플레이 기술 분야에서 일본 및 한국이 두각을 나타내는 것으로 분석됨. 이들 주요 출원인들의 주요 시장국과 최근 연구활동 및 기술력, 주력 기술 분야의 파악을 위하여, 주요 시장국별 출원건수, 3극 패밀리수 미국·일본·유럽 공동 출원 특허수 , 최근 5년간의 특허출원 증가율 및 시장확보지수, 피인용지수를 비교분석한 결과, 한국 국적 주요 출원인은 전반적으로 자국 시장에서 활발한 특허활동을 벌이고 있는 반면, 일본과 대만 국적 주요 출원인은 자국 외에 타국의 시장에서 활발한 특허활동을 하고 있는 것으로 나타남. 이를 고려하여 볼 때, 미래 디스플레이 핵심 소재 및 소자 기술 개발 분야에서는 일본의 FUJI FILM이 국내 ...