Extreme UV Lithography (EUVL)는 고성능의 IC를 상업적으로 제조하기 위한 핵심 기술이다. 그러나 적은 수의 EUV 광자는 높은 에너지를 지니며 박막 내에 불균일하게 분포하여 photon shot noise를 유발한다. 더불어 레지스트의 다양한 요소들은 불규칙적으로 구성되어 패턴의 가장자리 거칠기를 악화시킨다. 교대공중합체는 단량체들이 정해진 순서로 구성되어 있어 적은 광자 조건 하에서도 균일한 결과를 보일 수 있다. 본 연구에서는 균일한 조성을 부여하기 위해 Maleimide와 styrene 기반의 교대 공중합체 포토레지스트를 연구하였다. 또한 최근 환경에 대한 문제가 대두되는 만큼 본 연구에서는 현상액을 TMAH 대신 water로 대체하여 친환경적이면서 인체에 덜 유해한 공정이 가능하도록 목표를 설정했다. 따라서 본 포스터 발표에서는 현상액으로 Water를 사용하는 교대공중합체 구조의 포토레지스트의 합성 및 패터닝 결과를 보고하고자 한다