기판의 선택적 표면처리를 통한 liquid crystal 소자용 은 나노와이이어 기반 투명전극의 패터닝 기법
발표자
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초록
내용
은 나노와이어 기반 투명전극은 우수한 전기적, 광학적, 기계적 특성으로 인하여 ITO대체 투명전극으로 가장 적합하다고 평가되고 있다. 은 나노와이어 기반 투명전극을 LCD 등과 같은 디스플레이에 응용하기 위해서는 패터닝 공정이 필수적이다. 은 나노와이어 기반 투명전극은 일반적으로 감광성 물질을 이용한 포토리소그래피 기법, 레이저를 직접 조사하여 식각하는 레이저 패터닝 기법을 이용하여 패터닝되고 있으나, 비싼 공정비용 및 공정장비와 복잡한 공정과정 등으로 인하여 새로운 패터닝 기법에 대한 연구가 필요하다. 본 연구에서는 기판의 선택적 표면처리를 통하여 기판의 표면에너지를 조절하였으며, 이를 통해 은 나노와이어와 기판과의 접착력을 제어하여 패턴된 고분자 함침형 은 나노와이어 기반 투명전극을 제작하였다. 이렇게 제작된 고분자 함침형 은 나노와이어 기반 투명전극을 이용하여 liquid crystal 소자를 제작하고 그 특성을 평가하였다.