Highly soluble fluorous alkyl ether-tagged imaging materials for the photo-patterning of organic light-emitting devices
발표자
()
초록
내용
Organic light-emitting diode(OLED) pixel의 Orthogonal lithography방법으로 불소계 용제에 고용해도를 갖는 imaging material이 필요하게 되었다. 이전에 보고된 Photoresist인 acid-cleavable resorcinarene에 perfluoroether chains을 부착하고 광산발생제로 사용하는 naphthalimide backbone에 semi-perfluoroalkoxy를 첨가해 Photoresist와 광산발생제 모두 불소계 용제에 대해 용해도가 향상된 것을 확인하였다. 정공수송층(4,4',4"-tris(N-carbazolyl)triphenylamine (TCTA)) 위에 해당물질을 필름제작 하였을 때 OLED소자가 현상액에 대해 거의 손상 없이 우수한 photoimaging을 보였고 이를 OLED에 도입했을 때 pixel의 크기를 50 ㎛까지 확보하였다.